產品詳情
蔡司場發射掃描電鏡Sigma系列 擁有高品質成像和先進顯微分析功能的FE-SEM
蔡司場發射掃描電鏡Sigma系列產品集場發射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)技術與良好的用戶體驗于一體，助您輕松實現構建成像和分析程序，同時提高工作效率。您可以將其用于新材料和顆粒的質量監測，或研究生物和地質樣本。Sigma可實現高分辨率成像，它采用低電壓，能在1 kV或更低電壓下實現更高的分辨率和對比度。它出色的EDS幾何學設計可執行顯微分析，以兩倍的速度和更高的精度獲取分析數據。
使用Sigma系列，暢游高端納米分析世界。
Sigma 360是一款直觀的成像和分析FE-SEM，是分析測試平臺的理想之選。
Sigma 560采用先進的EDS幾何學設計，可提供高通量分析，實現自動原位實驗。
Sigma 360
分析測試平臺的理想之選，直觀的圖像采集
從設置到獲取基于人工智能的結果，均提供專業向導，為您保駕護航，助您探索直觀成像工作流。
可在1 kV和更低電壓下分辨差異，實現更高的分辨率和對比度。
直觀的成像工作流程指導您
從設置到基于 AI 的結果即使您是新手，也能獲得專業的結果。易于使用、易于學習的工作流程讓您受益于快速成像并節省培訓時間，讓您簡化從導航到后處理的每個步驟。
ZEISS SmartSEM Touch 中的軟件自動化讓您從導航、參數設置和圖像采集開始。
然后 ZEN core 發揮作用：它帶有特定于任務的工具包，最適合后處理。最推薦的是： AI Toolkit 可讓您根據機器學習分割圖像。將多模式實驗與 Connect Toolkit 相結合。或者使用材料應用程序分析微觀結構、晶粒尺寸或層厚。
可在極端條件下執行可變壓力成像，獲得出色的非導體成像結果。
對聚苯乙烯樣品進行斷裂，以了解聚合物界面處的裂紋形成和附著力。Sigma 360，C2D，3 kV，NanoVP lite模式，樣品室壓力60Pa。可在極端條件下完成可變壓力成像
用于分析和成像的NanoVP lite模式
新NanoVP lite模式和新探測器很容易在電壓低于5 kV時，從非導體中輕松獲取高質量數據。
這樣，就可增強成像和X射線能譜分析的性能，提供更多表面敏感信息，縮短采集時間，增強入射電子束流，提高能譜面分布分析速度。
aBSD1(環形背散射電子探測器)或新一代C2D(級聯電流)探測器可確保在低電壓條件下采集到出色圖像。
將多模式實驗與Connect Toolkit相結合，或使用Materials應用程序分析顯微結構、晶粒尺寸或涂層厚度直觀成像工作流為您指引方向
從設置到獲取基于人工智能的結果，每一步都清晰明了
即使您是新手用戶，也能輕松獲得專業結果。Sigma系列獲取圖像迅速，易于學習和使用的工作流可節省培訓時間，簡化從導航到后期處理的每個步驟，讓您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的軟件自動化可助您完成導航、參數設置和圖像采集等步驟。
接下來，ZEN core便可大顯身手：它配備針對具體任務的工具包，適用于后期處理。我們十分推薦人工智能工具包，它可助您基于機器學習進行圖像分割。
可在1 kV和更低電壓條件下分辨差異
增強的分辨率。優化的襯度
光學鏡筒是成像和分析性能的關鍵。Sigma配用蔡司Gemini 1電子光學鏡筒，可對任何樣品提供出色的成像分辨率，尤其是在低電壓條件下。
Sigma 360的低電壓分辨率目前500 V時為1.9 nm。通過大幅度降低色差，1 kV時的分辨率已提升10%以上，可達1.3 nm。
現在成像比以往任何時候都輕松，無論是要求苛刻的樣品，還是在可變壓力(VP)模式下采用背散射探測。
Sigma 560
高通量分析，原位實驗自動化
對實體樣品進行高效分析：基于SEM的高速和通用分析。
實現原位實驗自動化：無人值守測試的全集成實驗室。
可在低于1 kV的條件下完成要求苛刻的樣品成像：采集完整的樣品信息。
真實樣本的高效分析
利用 EDS 的多功能性進行調查并加快速度Sigma 560 的 EDS 幾何結構可提高您的分析效率。兩個 180° 徑向相對的 EDS 端口保證了吞吐量和無陰影映射，即使在低射束電流和低加速電壓下也是如此。
腔室上用于 EBSD 和 WDS 的附加端口允許進行 EDS 以外的分析。
即使是非導體也可以使用新的 NanoVP lite 模式進行分析，具有更多的信號和對比度。
新的 aBSD4 檢測器可輕松提供高度形貌樣品的圖像。
自動化您的原位實驗
完全集成的無人值守測試實驗室Sigma的原位實驗室是一種完全集成的解決方案，可在無人值守的自動化工作流程中實現獨立于操作員的加熱和拉伸測試結果。
通過分析 3D 中的納米級特征進一步擴展您的工作流程：執行 3D STEM 斷層掃描或執行基于 AI 的圖像分割。
新的 aBSD4 允許實時 3D 表面建模 (3DSM)。
輕松對具有挑戰性的樣品進行成像
查看 1 kV 及以下的差異在 1 kV 甚至 500 V 下實現更佳信息成像和分析：Sigma 560 的低電壓分辨率在 500 V 時指定為 1.5 nm。
使用新的 aBSD 或 C2D 檢測器，在加速電壓低至 3 kV 的新 NanoVP lite 模式下，在可變壓力下輕松研究具有挑戰性的樣品。
如果您正在研究電子設備，您會希望保持清潔的環境。通過(強烈推薦)等離子清潔器和允許穿梭 6 英寸晶圓的新型大型氣閘，保護您的腔室免受污染。
Gemini 1 光學
Gemini 1 光學系統由三個元件組成：物鏡、光束增強器和 Inlens 檢測概念。物鏡設計結合了靜電場和磁場，以更大限度地提高光學性能，同時將對樣品的場影響降至更低。這使得即使在具有挑戰性的樣品(如磁性材料)上也能實現出色的成像。Inlens 檢測概念通過檢測二次 (SE) 和/或背散射 (BSE) 電子確保有效的信號檢測，同時更大限度地縮短成像時間。光束增強器保證小探頭尺寸和高信噪比。
靈活檢測
Sigma 具有一套不同的檢測器。使用最新的檢測技術表征您的樣品。使用 ETSE 和用于高真空模式的 Inlens 檢測器獲取高分辨率地形信息。使用 VPSE 或 C2D 檢測器在可變壓力模式下獲得清晰的圖像。使用 aSTEM 檢測器生成高分辨率透射圖像。使用不同的可選 BSE 檢測器(例如 aBSD 檢測器)研究成分和形貌。
NanoVP 精簡模式
使用 NanoVP 精簡模式進行分析和成像。受益于更好的圖像質量，尤其是在低電壓下，更快、更地獲得分析數據。
在 NanoVP lite 中，裙邊效應和光束氣體路徑長度 (BGPL) 都減少了。減少的裙邊導致 SE 和 BSE 成像中的信噪比增強。
具有五個環形部分的可伸縮 aBSD 提供了出色的材料對比：它帶有梁套筒，并在 NanoVP lite 操作期間安裝在極靴下方。它提供高通量和低電壓成分和形貌對比成像，適用于 VP 和 HV(高真空)。
