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蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡sigma的技術(shù)參數(shù)

分類(lèi):公司新聞 發(fā)布時(shí)間:2022-06-23 24260次瀏覽

  蔡司公司*新推出Sigma300場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)...

  蔡司公司*新推出Sigma300場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),將低電壓成像技術(shù)發(fā)揮到了極 致,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高 級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合,多種探測(cè)器可選:用于顆粒、表面或者納 米結(jié)構(gòu)成像。Sigma自動(dòng)的四步工作流程大大節(jié)省了設(shè)置與分析操作的時(shí)間,提高 效率。

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

  產(chǎn)品應(yīng)用

  掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分 析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶 粒取向測(cè)量。

  技術(shù)參數(shù)

  ? 分辨率:1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV

  ? 放大倍數(shù):10-1,000,000×

  ? 加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無(wú)需減速模式實(shí)現(xiàn))

  ? 探針電流:4pA-20nA (40nA&100nA可選)

  ? 低真空范圍:2-133Pa (Sigma 300VP可用)

  ? 樣品室:365 mm(φ),275mm(h)

  ? 樣品臺(tái):5軸優(yōu)中 心全自動(dòng)

  ? X=125mm

  ? Y=125 mm

  ? Z=50 mm

  ? T=-10o-90o

  ? R=360o 連續(xù)

  ? 系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤(pán)、控制面板控制


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