FIB雙束掃描電鏡系統就是把FIB系統和傳統掃描電子顯微鏡系統按一定的角度同時裝在一個裝置上，把試樣調節到共心高度位置。這就使得試驗時可通過轉動試樣臺使試樣表面與電子束或者離子束垂直，從而最終達到對電子束進行實時觀測和對離子束進行切割或者微加工等效果。
FIB-SEM雙束掃描電鏡功能及應用
1、FIB-SEM的主要功能包括:
①電子束成像，用于定位樣品、獲取微觀結構和監測加工過程;
②離子束刻蝕，用于截面觀察和圖形加工;
③氣體沉積，用于圖形加工和樣品制備;
④顯微切割制備微米大小納米厚度的超薄片試樣(厚度小于<100 nm)，用于后續的TEM和同步輻射STXM等相關分析;
⑤顯微切割制備納米尺寸的針尖狀樣品，用于后續的APT分析，獲取其微量元素和同位素信息;
⑥綜合SEM成像、FIB切割及EDXS化學分析，對試樣進行微納尺度的三維重構分析等。
2、FIB-SEM的主要應用：
①微納結構加工;
②截面分析;
③TEM樣品制備;
④三維原子探針樣品制備;
⑤芯片修補與線路修改;
⑥光刻掩膜版修復;
⑦三維重構分析等。
